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High speed bright copper electroplating solution

高速光亮铜电镀液

品牌
Sigma-Aldrich
货号
900569
规格纯度
semiconductor grade
参考价格
830.35 *本价格含增值税费
促销
数量
-+
产品介绍:

产品说明

一般描述

高速光亮铜电镀液是一种电解酸铜工艺,设计用于电镀铜凸块、焊盘、图案和重新分布层,以及在包括半导体、玻璃、聚合物等在内的各种基板上填充小瓶和沟槽。该铜电镀溶液由硫酸铜和硫酸以及少量盐酸和有机添加剂组成。该有机添加剂具有较宽的浓缩工艺窗口,从而无需使用单独的添加剂溶液以及无需在约120安培小时的电镀时间内进行补充。

包装

500 mL in poly bottle

特点和优势

  • 使用含有电镀助剂的单一电镀液。
  • 具有大工艺窗口的稳定添加剂。
  • 高纯度电解液和长的保质期。
  • 高浊点(>80℃)和低起泡性。
  • 低表面张力电镀浴(∼44达因/cm @ 25 ℃)。
  • 高速电镀(最高5 μm/min)。
  • 均匀平坦的凸块、焊盘、图案和重新分布层。
  • 小瓶和沟槽的无空隙填充。

质量

储存特性:

  • 8.9 g/cm3的密度。
  • 1.7–1.8 μΩ cm的电阻率。
  • 压力<50 MPa。
  • 膜内纯度高(对于N、S、C、O、Cl为<10 ppm)。
  • 低表面粗糙度,RMS <10 nm @ 1 μm厚的Cu。
  • 沟槽平面化(在具有0.8 μm厚的Cu的1 μm宽 x 0.5 μm深沟槽内无凹口)。
  • 具有小(220)和(200)的强(111)质地。
  • 反射率>75%。
  • 19-32%的延伸率。

产品性质

质量水平100
等级semiconductor grade
测定40 mg/L±4 mg/L chloride basis
600 mg/L±60 mg/L (organic additives)
65.0 g/L±2 g/L Cu basis
8.0 g/L±0.4 g/L H2SO4 basis
形式liquid

安全信息

象形图GHS05GHS07GHS09
警示用语:Warning
危险声明H290 - H302 - H315 - H319 - H410
预防措施声明P273 - P301 + P312 + P330 - P302 + P352 - P305 + P351 + P338
危险分类Acute Tox. 4 Oral - Aquatic Acute 1 - Aquatic Chronic 1 - Eye Irrit. 2 - Met. Corr. 1 - Skin Irrit. 2
储存分类代码8B - Non-combustible, corrosive hazardous materials
WGKWGK 3
闪点(F)Not applicable
闪点(C)Not applicable

Sigma-Aldrich

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